Что скрывается за селфи? Новый конкурс объединяет искусство, технологии и психоанализ

Школа дизайна НИУ ВШЭ совместно с Кафедрой психоанализа и бизнес-консультирования запускает конкурс «Нарцисс: между образом и реальностью». Участникам предлагают исследовать феномен нарциссизма через визуальное искусство — создать не просто эффектную работу, а честное художественное высказывание о том, что скрывается за цифровым образом, идеальным селфи и погоней за одобрением. Заявку можно подать до 31 июля 2026 года.

Сегодня селфи всё чаще становится способом рассказать о себе, а реакция аудитории — подтверждением собственной значимости. Однако за тщательно выстроенным цифровым образом могут скрываться противоречия: уверенность соседствует с уязвимостью, стремление к признанию — с ощущением пустоты, а внешняя безупречность — с внутренним напряжением.

Участникам предлагают перевести этот конфликт на язык визуального искусства. Организаторы ждут не просто эстетичных работ, а содержательных и честных высказываний — в том числе провокационных, тревожных или неудобных. Важнее всего не гладкость изображения, а глубина авторского взгляда и способность показать то, что обычно остаётся за пределами кадра.

НОМИНАЦИИ

В номинации «По ту сторону селфи» участникам предстоит создать цифровой автопортрет, селфи-арт, аватар или AR-маску. Работа должна обращаться не столько к внешности автора, сколько к его внутреннему миру и показывать разрыв между публичным образом и личным ощущением себя.

Номинация «Тень Нарцисса» предполагает более развёрнутое визуальное высказывание — серию постеров, комикс или короткую анимацию продолжительностью до 40 секунд. Здесь участникам предлагают исследовать двойственность нарциссизма, его защитные механизмы и скрытую уязвимость.

ЭТАПЫ И СРОКИ

• Приём работ — до 31 июля 2026 года
• Работа жюри — с 1 по 11 августа 2026 года
• Подведение итогов — 12 августа 2026 года

ПРИЗЫ

Победители конкурса получат дипломы и скидки до 100% на обучение по программе дополнительного профессионального образования «Нарциссизм и нарциссическое расстройство: признаки, ловушки, правила самозащиты».

Лучшие работы войдут в шорт-лист конкурса и будут опубликованы на официальном сайте НИУ ВШЭ, в социальных сетях Школы дизайна и Кафедры психоанализа и бизнес-консультирования, а также смогут быть появиться на выставках, в публикациях и других образовательных проектах, связанных с конкурсом.